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文献
J-GLOBAL ID：200902219989517337
整理番号：09A0330568
金属/Hfベースの高kゲート積層での仕事関数シフトに関する系統的研究
Systematic study on work-function-shift in metal/Hf-based high-k gate stacks
KITA Yuki
(Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN)
,
YOSHIDA Shinichi
(Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN)
,
HOSOI Takuji
(Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN)
,
SHIMURA Takayoshi
(Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN)
,
SHIRAISHI Kenji
(Graduate School of Pure and Applied Sci., Univ. of Tsukuba, Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
NARA Yasuo
(Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc., Tsukuba, Ibaraki 305-8569, JPN)
,
YAMADA Keisaku
(Nanotechnology Res. Laboratories, Waseda Univ., Shinjuku, Tokyo 162-0041, JPN)
,
WATANABE Heiji
(Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 94 号： 12 ページ： 122905 発行年： 2009年03月23日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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