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文献
J-GLOBAL ID：200902220199222815
整理番号：05A0910754
高密度低イオンエネルギーマイクロ波プラズマによって成膜した微結晶シリコンの構造特性へのパワー密度の影響
Effect of power density on the structure properties of microcrystalline silicon film prepared by high-density low-ion-energy microwave plasma
ZHONG Chuan Jie
(School of Information Technol., Southern Yangtze Univ., 1800 LiHuDaDao, Wuxi 214122, Jiangsu, CHN)
,
TANAKA Hiroaki
(New Ind. Creation Hatchery Center, Tohoku Univ., Aza-Aoba 04, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, JPN)
,
SUGAWA Shigetoshi
(New Ind. Creation Hatchery Center, Tohoku Univ., Aza-Aoba 04, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, JPN)
,
OHMI Tadahiro
(New Ind. Creation Hatchery Center, Tohoku Univ., Aza-Aoba 04, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 493 号： 1-2 ページ： 54-59 発行年： 2005年12月22日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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