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文献
J-GLOBAL ID：200902220508309319
整理番号：04A0344069
負イオン注入法でSiO2薄膜中に形成した金属ナノ粒子の状態と注入原子分布計算の関係
辻博司
(京大 大学院)
,
洗暢俊
(京大 大学院)
,
松本卓也
(京大 大学院)
,
上野和也
(京大 大学院)
,
後藤直行
(京大 大学院)
,
足立浩一郎
(シャープ)
,
小滝浩
(シャープ)
,
後藤康仁
(京大 大学院)
,
石川順三
(京大 大学院)
資料名：
応用物理学関係連合講演会講演予稿集
(Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 51st 号： 2 ページ： 808 発行年： 2004年03月28日
JST資料番号： Y0054A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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