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文献
J-GLOBAL ID：200902220873329086
整理番号：04A0098347
50keV又はそれ以上のエネルギーの電子ビームを用いたフォトマスクの観察と測定
Observations and measurements of photomasks using an electron beam with energy of 50keV or higher
MIZUNO F
(Meisei Univ., Tokyo, JPN)
,
OHFUJI T
(Intel K.K., Ibaraki-ken, JPN)
,
AMANO T
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., Saitama-ken, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 21 号： 6 ページ： 3131-3135 発行年： 2003年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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