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文献
J-GLOBAL ID：200902221154645509
整理番号：05A0422111
DMDを用いた無マスク・リソグラフィーのイメージングのシミュレーション
Imaging Simulation of Maskless Lithography Using a DMD
LIU Chi
(Sichuan Univ., Chengdu, CHN)
,
GUO Xiaowei
(Sichuan Univ., Chengdu, CHN)
,
GAO Fuhua
(Sichuan Univ., Chengdu, CHN)
,
LUO Boliang
(Sichuan Univ., Chengdu, CHN)
,
DUAN Xi
(Sichuan Univ., Chengdu, CHN)
,
DU Jinglei
(Sichuan Univ., Chengdu, CHN)
,
QIU Chuankai
(State Key Lab. Optical Technol. Microfabrication, Chinese Acad. Sci., CHN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 5645 ページ： 307-314 発行年： 2005年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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