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文献
J-GLOBAL ID：200902221550982534
整理番号：05A0568914
ベータ露光ツール及び大量チップ生産ツールに使用する気体放電発生プラズマZピンチEUV光源開発の現状
Development status of gas discharge produced plasma Z-pinch EUV sources for use in beta-tools and high volume chip manufacturing tools
STAMM U.
(XTREME technol., Goettingen, DEU)
,
KLEINSCHMIDT J.
(XTREME technol., Goettingen, DEU)
,
GAEBEL K.
(XTREME technol., Jena, DEU)
,
HERGENHAN G.
(XTREME technol., Jena, DEU)
,
ZIENER C.
(XTREME technol., Jena, DEU)
,
AHMAD I.
(XTREME technol., Goettingen, DEU)
,
BOLSHUKHIN D.
(XTREME technol., Goettingen, DEU)
,
KOROBOTCHKO V.
(XTREME technol., Goettingen, DEU)
,
KELLER A.
(XTREME technol., Goettingen, DEU)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 5751 号： Pt.2 ページ： 829-839 発行年： 2005年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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