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文献
J-GLOBAL ID：200902221628218518
整理番号：03A0348354
多孔質シリカ膜の構造的および誘電的性質に対するTEOS/MTES比の影響
The Effect of TEOS/MTES Ratio on the Structural and Dielectric Properties of Porous Silica Films
YU S
(Nanyang Technological Univ., SGP)
,
WONG T K S
(Nanyang Technological Univ., SGP)
,
HU X
(Nanyang Technological Univ., SGP)
,
PITA K
(Nanyang Technological Univ., SGP)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 150 号： 5 ページ： F116-F121 発行年： 2003年05月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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