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文献
J-GLOBAL ID:200902221628552485   整理番号:08A0626998

ゲート絶縁体にSi3N4を用いてチャネル反転したエンハンスメントモードGaAs金属-絶縁体-半導体電界効果トランジスタ

Demonstration of enhancement-mode GaAs metal-insulator-semiconductor field effect transistor with channel inversion using Si3N4 as gate dielectric
著者 (5件):
ZHENG J. F.
(Intel Corp., SC1-05, 2200 Mission Coll. Blvd, Santa Clara, California 95052, USA)
TSAI W.
(Intel Corp., SC1-05, 2200 Mission Coll. Blvd, Santa Clara, California 95052, USA)
LI W. P.
(Dep. of Electrical Engineering, Yale Univ., 15 Prospect Street, New Haven, Connecticut 06520, USA)
WANG X. W.
(Dep. of Electrical Engineering, Yale Univ., 15 Prospect Street, New Haven, Connecticut 06520, USA)
MA T. P.
(Dep. of Electrical Engineering, Yale Univ., 15 Prospect Street, New Haven, Connecticut 06520, USA)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 92  号: 23  ページ: 232904  発行年: 2008年06月09日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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