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文献
J-GLOBAL ID：200902221666992120
整理番号：03A0830707
高周波マグネトロンスパッタ法によるアルミナ膜の組成と機械的特性に及ぼす基板温度と酸素分圧の影響
Effects of Substrate Temperature and O2 Gas Partial Pressure on Mechanical Properties of Alumina Films deposited by Radio Frequency Magnetron Sputtering
藤山博一
(福岡工大 工)
,
李木経孝
(広島国際学院大)
,
内城憲治
(科学技術振興事業団)
資料名：
福岡工業大学エレクトロニクス研究所所報
(Reports of the Electronics Research Laboratory, Fukuoka Institute of Technology)
巻： 20 ページ： 17-26 発行年： 2003年10月31日
JST資料番号： Y0948A ISSN： 0911-050X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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