文献
J-GLOBAL ID:200902221716566151
整理番号:09A0735600
ArF(193nm)露光を通したArFCAレジストからの気体放出研究
Study of the Outgassing from the ArF CA Resist during ArF (193nm) Exposure
著者 (6件):
SEKIGUCHI Atsushi
(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)
,
OGAWA Kengo
(Toray Res. Center, Inc., Shiga, JPN)
,
TANABE Kenji
(Toray Res. Center, Inc., Shiga, JPN)
,
MATSUNOBE Takeshi
(Toray Res. Center, Inc., Shiga, JPN)
,
ODA Fumihiko
(Ushio Corp., Hyogo, JPN)
,
MORIMOTO Yukihiro
(Ushio Corp., Hyogo, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
22
号:
3
ページ:
329-334
発行年:
2009年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)