文献
J-GLOBAL ID:200902221847256921
整理番号:03A0682110
ガスフロースパッタ法による高い光触媒活性を有するTiO2膜の高速堆積
Preparation of TiO2 Films with High Photocatalytic Activities by Gas Flow Sputtering
著者 (3件):
石井清
(宇都宮大 工)
,
黒川和成
(宇都宮大 工)
,
吉原佐知雄
(宇都宮大 大学院)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
103
号:
245(CPM2003 61-71)
ページ:
51-56
発行年:
2003年08月01日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)