文献
J-GLOBAL ID:200902223326350746
整理番号:09A0561510
KrFスキャナによる0.13μm-BiCMOSエミッタウィンドウリソグラフィー
0.13μm BiCMOS emitter window lithography with KrF scanners
著者 (3件):
CHOU Li-Heng
(National Semiconductor Corp, Maine, USA)
,
PATEL Neil S.
(National Semiconductor Corp, Maine, USA)
,
MCCARTHY Patrick M.
(National Semiconductor Corp, Maine, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7274
号:
Pt.2
ページ:
72742N.1-72742N.8
発行年:
2009年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)