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文献
J-GLOBAL ID：200902223578695398
整理番号：07A0117402
金属ゲート/HfO2積層における捕獲/放出動力学
Trapping and detrapping kinetics in metal Gate/HfO2 stacks
MITARD J.
(CEA-LETI, Grenoble, FRA)
,
MITARD J.
(STMicroelectronics, Crolles)
,
LEROUX C.
(CEA-LETI, Grenoble, FRA)
,
GHIBAUDO G.
(IMEP, CNRS, Grenoble)
,
REIMBOLD G.
(CEA-LETI, Grenoble, FRA)
,
GARROS X.
(CEA-LETI, Grenoble, FRA)
,
GUILLAUMOT B.
(CEA-LETI, Grenoble, FRA)
,
GUILLAUMOT B.
(STMicroelectronics, Crolles)
,
BOULANGER F.
(CEA-LETI, Grenoble, FRA)
資料名：
Proceedings of the 12th International Symposium on the Physical & Failure Analysis of Integrated Circuits, 2005
(Proceedings of the 12th International Symposium on the Physical & Failure Analysis of Integrated Circuits, 2005)
ページ： 155-158 発行年： 2005年
JST資料番号： K20050091 ISBN： 0-7803-9301-5 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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