文献
J-GLOBAL ID:200902224421802448
整理番号:04A0600944
超低k1リソグラフィーにおける多重照射技術によるコンタクトホール形成
Contact Hole Formation by Multiple Exposure Technique in Ultra-low k1 Lithography
著者 (7件):
NAKAMURA H
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
ONISHI Y
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
SATO K
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
TANAKA S
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
MIMOTOGI S
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
HASHIMOTO K
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
INOUE S
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
5377
号:
Pt.1
ページ:
255-263
発行年:
2004年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)