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文献
J-GLOBAL ID：200902225386984321
整理番号：05A0298258
ポリSi膜用の新しく開発した高速回転するディスク化学蒸着装置
Newly Developed High-Speed Rotating Disk Chemical Vapor Deposition Equipment for Poly-Si Films
TERAI F
(Shibaura Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
KOBAYASHI H
(Toshiba Corp., Kanagawa, JPN)
,
KATSUI S
(Toshiba Corp., Ooita, JPN)
,
SATO Y
(Toshiba Corp., Kanagawa, JPN)
,
NAGATOMO T
(Shibaura Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
HOMMA T
(Shibaura Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 44 号： 1A ページ： 125-130 発行年： 2005年01月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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