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文献
J-GLOBAL ID：200902225637022400
整理番号：08A0710374
二重パターニングリソグラフィーのためのEBマスク書き込みにおける精度の主要な改善スキーム
Key improvement Schemes of Accuracies in EB Mask Writing for Double Patterning Lithography
SUNAOSHI Hitoshi
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
KAMIKUBO Takashi
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
NISHIMURA Rieko
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
TSURUTA Kaoru
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
KATSUMATA Takehiko
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
OHNISHI Takayuki
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
ANZE Hirohito
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
TAKAMATSU Jun
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
YOSHITAKE Shusuke
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
TAMAMUSHI Shuichi
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 6792 ページ： 679208.1-679208.7 発行年： 2008年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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