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文献
J-GLOBAL ID：200902225870677174
整理番号：07A1152399
プラズマCVD法による炭素薄膜の作製とエネルギーデバイスへの展開
Preparation of carbonaceous thin films by plasma-assisted chemical vapor deposition and their application to energy devices
福塚友和
(兵庫県大 大学院工学研究科)
,
松尾吉晃
(兵庫県大 大学院工学研究科)
,
杉江他曾宏
(兵庫県大 大学院工学研究科)
,
安部武志
(京大 大学院工学研究科)
,
小久見善八
(京大 大学院工学研究科)
資料名：
炭素
巻： 2007 号： 230 ページ： 352-361 発行年： 2007年11月15日
JST資料番号： G0633A ISSN： 0371-5345 CODEN： TASOA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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