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文献
J-GLOBAL ID：200902225988751328
整理番号：03A0512662
低価格の銅ジアルキルアミノ-2-プロポキシドから純銅薄膜の有機金属CVDに関する研究 配位子のわずかな変化による前駆体の熱的特性の調整
A Study on the Metal-Organic CVD of Pure Copper Films from Low Cost Copper(II) Dialkylamino-2-propoxides: Tuning the Thermal Properties of the Precursor by Small Variations of the Ligand
BECKER R
(Ruhr-Univ. Bochum, DEU)
,
DEVI A
(Ruhr-Univ. Bochum, DEU)
,
WEISS J
(Ruhr-Univ. Bochum, DEU)
,
WECKENMANN U
(Ruhr-Univ. Bochum, DEU)
,
WINTER M
(Ruhr-Univ. Bochum, DEU)
,
KIENER C
(Max-Planek-Inst. Kohlenforsch., Muelheim an der Ruhr,DEU)
,
BECKER H-W
(Ruhr-Univ. Bochum, DEU)
,
FISCHER R A
(Ruhr-Univ. Bochum, DEU)
資料名：
Chemical Vapor Deposition
(Chemical Vapor Deposition)
巻： 9 号： 3 ページ： 149-156 発行年： 2003年06月
JST資料番号： W0908A ISSN： 0948-1907 CODEN： CVDEFX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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