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文献
J-GLOBAL ID：200902226282744295
整理番号：03A0538758
SiO2上に形成したNb[110]障壁上のCu[111]層の構造解析
Structural Analyses of Cu[111] Layer on Nb[110] Barrier Formed on SiO2
MANIRUZZAMAN M
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
TAKEYAMA M B
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
HAYASAKA Y
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
AOYAGI E
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
OHSUNA T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
NOYA A
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 103 号： 162(SDM2003 74-92) ページ： 19-22 発行年： 2003年06月30日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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