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文献
J-GLOBAL ID：200902226287695578
整理番号：07A1238821
パルス式閉鎖場非均衡マグネトロンスパッタリング(P-CFUBMS)法で蒸着したCrAlN皮膜の構造と特性に及ぼす,非同期パルス化パラメータの効果
Effect of asynchronous pulsing parameters on the structure and properties of CrAlN films deposited by pulsed closed field unbalanced magnetron sputtering (P-CFUBMS)
LIN Jianliang
(Advanced Coatings and Surface Engineering Lab. (ACSEL), Colorado School of Mines, Golden, Colorado, USA)
,
MOORE John J.
(Advanced Coatings and Surface Engineering Lab. (ACSEL), Colorado School of Mines, Golden, Colorado, USA)
,
MISHRA Brajendra
(Advanced Coatings and Surface Engineering Lab. (ACSEL), Colorado School of Mines, Golden, Colorado, USA)
,
PINKAS Malki
(Reactive Sputtering, INC, 2152 Goya Place, San Marcos, California, USA)
,
PINKAS Malki
(Nuclear Res. Center, Negev, ISR)
,
SPROUL William D.
(Reactive Sputtering, INC, 2152 Goya Place, San Marcos, California, USA)
,
REES J.a.
(Hiden Analytical Ltd, Warrington, England)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 202 号： 8 ページ： 1418-1436 発行年： 2008年01月15日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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