文献
J-GLOBAL ID:200902227030731316
整理番号:05A0866084
プラズマで酸窒化物化したHfおよびZr薄膜の熱安定性および化学結合構成の比較
Comparison of Thermal Stability and Chemical Bonding Configurations of Plasma Oxynitrided Hf and Zr Thin Films
著者 (4件):
LAI Yi-Sheng
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
,
LU C. H.
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
,
CHEN Li-Min
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
,
CHEN J. S.
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
152
号:
9
ページ:
F146-F152
発行年:
2005年
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)