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文献
J-GLOBAL ID：200902227225800185
整理番号：08A0557498
有機溶媒系弗化水素を用いた高k/金属ゲートの電気腐食抑制
Galvanic Corrosion Suppression of High-κ/Metal Gates Using Organic Solvent-Based Hydrogen Fluoride
WATANABE Daisuke
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
AOKI Hidemitsu
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
HOTTA Saori
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KIMURA Chiharu
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SUGINO Takashi
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 47 号： 4 Issue 2 ページ： 2425-2427 発行年： 2008年04月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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