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文献
J-GLOBAL ID：200902227259682300
整理番号：05A0996468
電場支援アニーリングにより堆積した(Bi,La)4Ti3O12薄膜の作製と電気的性質
Fabrication and Electrical Properties of (Bi,La)4Ti3O12 Thin Films Deposited with Electric-Field-Assisted Annealing
NAKAYAMA Hiroshi
(Fuji Industrial Res. Inst. of Shizuoka Prefecture, Fuji, JPN)
,
NAKAYAMA Hiroshi
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
SUGIYAMA Osamu
(Fuji Industrial Res. Inst. of Shizuoka Prefecture, Fuji, JPN)
,
MANO Tsuyoshi
(Fuji Industrial Res. Inst. of Shizuoka Prefecture, Fuji, JPN)
,
SHIBUYA Yoshio
(Fuji Industrial Res. Inst. of Shizuoka Prefecture, Fuji, JPN)
,
HOSHI Yusuke
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
SUZUKI Hisao
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 44 号： 9B ページ： 6947-6951 発行年： 2005年09月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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