文献
J-GLOBAL ID:200902227311361623
整理番号:05A0909573
電流方向を考慮した歪みSiデバイスのスケーリングに関する検討
Analysis of the Scaling Feasibility in Strained Si Device Including Current Direction Dependencies
著者 (4件):
田辺亮
(富士通研)
,
山崎隆浩
(富士通研)
,
芦沢芳夫
(富士通研)
,
岡秀樹
(富士通研)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
105
号:
310(SDM2005 161-172)
ページ:
25-30
発行年:
2005年09月20日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)