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J-GLOBAL ID：200902227464193754 整理番号：04A0097705

基板バイアスによるRF熱プラズマダイヤモンド蒸着の監視と制御

Monitoring and control of RF thermal plasma diamond deposition via substrate biasing

著者 (3件)：

OBERSTE BERGHAUS J

(McGill Univ., Montreal, CAN)

MEUNIER J-L

(McGill Univ., Montreal, CAN)

GITZHOFER F

(Univ. Sherbrooke, CAN)

資料名：

Measurement Science and Technology (Measurement Science and Technology)

巻： 15 号： 1 ページ： 161-164 発行年： 2004年01月
JST資料番号： C0354C ISSN： 0957-0233 CODEN： MSTCEP 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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