文献
J-GLOBAL ID:200902227724376556
整理番号:06A0356385
III-V族窒化物半導体,GaN,AlN,およびInNの中の定常状態と過渡状態の電子移動: レビュー
Steady-State and Transient Electron Transport Within the III-V Nitride Semiconductors, GaN, AlN, and InN: A Review
著者 (4件):
O’LEARY Stephen K.
(Univ. Regina, Saskatchewan, CAN)
,
FOUTZ Brian E.
(Cornell Univ., York, USA)
,
SHUR Michael S.
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA)
,
EASTMAN Lester F.
(Cornell Univ., York, USA)
資料名:
Journal of Materials Science. Materials in Electronics
(Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻:
17
号:
2
ページ:
87-126
発行年:
2006年02月
JST資料番号:
W0003A
ISSN:
0957-4522
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)