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文献
J-GLOBAL ID：200902227984540350
整理番号：05A0675879
赤外分光偏光解析法による多孔質シリカ低誘電率薄膜中の骨格シリカの評価
Skeletal silica characterization in porous-silica low-dielectric-constant films by infrared spectroscopic ellipsometry
TAKADA Syozo
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
HATA Nobuhiro
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
SEINO Yutaka
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
FUJII Nobutoshi
(Assoc. of Super-Advanced Electronics Technol., Ibaraki, JPN)
,
KIKKAWA Takamaro
(Hiroshima Univ., Hiroshima, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 97 号： 11 ページ： 113504.1-113504.5 発行年： 2005年06月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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