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文献
J-GLOBAL ID：200902228078545308
整理番号：03A0411404
極薄Co-SiO2グラニュラー膜におけるトンネル磁気抵抗
Tunneling magnetoresistance in ultrathin Co-SiO2 granular films
HONDA S
(Shimane Univ., Shimane, JPN)
,
YAMAMOTO Y
(Shimane Univ., Shimane, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 93 号： 10,Pt.3 ページ： 7936-7938 発行年： 2003年05月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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