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文献
J-GLOBAL ID：200902228083366241
整理番号：05A0001465
シンクロトロンX線平面波による超大規模集積ウエハのシリコン表面トポグラフの観察
Observation of silicon front surface topographs of an ultralarge-scale-integrated wafer by synchrotron x-ray plane wave
SUZUKI Y
(Kyushu Inst. Technol., Kitakyushu-shi, JPN)
,
TSUKASAKI Y
(Kyushu Inst. Technol., Kitakyushu-shi, JPN)
,
KAJIWARA K
(Japan Synchrotron Res. Inst., Hyogo, JPN)
,
KAWADO S
(Rigaku Corp., Tokyo, JPN)
,
IIDA S
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
CHIKAURA Y
(Kyushu Inst. Technol., Kitakyushu-shi, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 96 号： 11 ページ： 6259-6261 発行年： 2004年12月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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