文献
J-GLOBAL ID:200902228201411664
整理番号:05A0776245
段階的二重アニーリングプロセスによるNiCr薄膜の抵抗特性の改善
Improvement of resistance characteristics of NiCr thin film by gradational double annealing process
著者 (4件):
KIM N.-H.
(Chosun Univ., Gwangju, KOR)
,
KWON Y.
(Chosun Univ., Gwangju, KOR)
,
PARK J.
(Chosun Univ., Gwangju, KOR)
,
CHOI G.-P.
(Jeonnem Advanced Materials Industrialization Centre, Jeonnam, KOR)
資料名:
Electronics Letters
(Electronics Letters)
巻:
41
号:
17
ページ:
982-984
発行年:
2005年08月18日
JST資料番号:
A0887A
ISSN:
0013-5194
CODEN:
ELLEAK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)