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文献
J-GLOBAL ID：200902228945449732
整理番号：09A0455819
プラズマプロセスチャンバーにおける複合ガス種の分圧のパルス制御ガス注入による精密高速制御
Precise and high-speed control of partial pressures of multiple gas species in plasma process chamber using pulse-controlled gas injection
MORISHITA Sadaharu
(EES Technol. Dep. of Technol., Dev. Center HQ, Industrial Automation Co., OMRON Corp., Tokyo 141-0032, JPN)
,
GOTO Tetsuya
(New Ind. Creation Hatchery Center, Tohoku Univ., Sendai 980-8579, JPN)
,
NAGASE Masaaki
(Osaka High-Tech Res. and Dev. Center, Fujikin Inc., Osaka 559-0031, JPN)
,
OHMI Tadahiro
(New Ind. Creation Hatchery Center, Tohoku Univ., Sendai 980-8579, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 27 号： 3 ページ： 423 発行年： 2009年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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