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文献
J-GLOBAL ID：200902228968553715
整理番号：07A0731287
45nmノード用の新しい投影光学系と収差制御システム
New projection optics and aberration control system for the 45-nm node
YOSHIHARA Toshiyuki
(Canon Inc., Tochigi-ken, JPN)
,
TAKESHITA Bunsuke
(Canon Inc., Tochigi-ken, JPN)
,
SHIGENOBU Atsushi
(Canon Inc., Tochigi-ken, JPN)
,
HASEGAWA Yasuo
(Canon Inc., Tochigi-ken, JPN)
,
OHSAKI Yoshinori
(Canon Inc., Tochigi-ken, JPN)
,
MISHIMA Kazuhiko
(Canon Inc., Tochigi-ken, JPN)
,
MIURA Seiya
(Canon Inc., Tochigi-ken, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 6520 号： Pt.2 ページ： 652022.1-652022.8 発行年： 2007年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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