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文献
J-GLOBAL ID：200902230943261412
整理番号：05A0422101
空中映像計測技術を使用した193nm液浸および偏光リソグラフィー用マスク開発のスピードアップ
Using the aerial image measurement technique to speed up mask development for 193nm immersion and polarization lithography
ZIBOLD Axel M.
(Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU)
,
HARNISCH W.
(Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU)
,
SCHERUEBL T.
(Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU)
,
ROSENKRANZ N.
(Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU)
,
GREIF J.
(Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 5645 ページ： 223-232 発行年： 2005年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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