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文献
J-GLOBAL ID：200902231138631374
整理番号：06A0594147
フェムト秒及びピコ秒レーザ照射による結晶Siのアブレーションと非晶質化
Ablation and Amorphization of Crystalline Si by Femtosecond and Picosecond Laser Irradiation
IZAWA Yusaku
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SETUHARA Yuichi
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
HASHIDA Masaki
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
FUJITA Masayuki
(Inst. for Laser Technol., Osaka, JPN)
,
IZAWA Yasukazu
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45 号： 7 ページ： 5791-5794 発行年： 2006年07月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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