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文献
J-GLOBAL ID:200902231619053471   整理番号:07A0488516

HF溶液中におけるPt触媒を用いた無電解化学エッチングによるSiC表面の原子スケール的平坦化

Atomic-scale flattening of SiC surfaces by electroless chemical etching in HF solution with Pt catalyst
著者 (9件):
ARIMA Kenta
(Dep. of Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka ...)
HARA Hideyuki
(Dep. of Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka ...)
MURATA Junji
(Dep. of Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka ...)
ISHIDA Takeshi
(Res. Center for Ultra-Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., 2-1, Yamada-oka ...)
OKAMOTO Ryota
(Res. Center for Ultra-Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., 2-1, Yamada-oka ...)
YAGI Keita
(Res. Center for Ultra-Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., 2-1, Yamada-oka ...)
SANO Yasuhisa
(Dep. of Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka ...)
MIMURA Hidekazu
(Dep. of Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka ...)
YAMAUCHI Kazuto
(Dep. of Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka ...)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 90  号: 20  ページ: 202106-202106-3  発行年: 2007年05月14日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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