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文献
J-GLOBAL ID：200902231928511018
整理番号：05A0450659
電界放出材料としての炭化ハフニウム薄膜の走査型トンネル顕微鏡観察
Scanning tunneling microscopy observations of hafnium carbide thin films as a field emission material
SATO T.
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
SAIDA M.
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
HORIKAWA K.
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
SASAKI M.
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
NAGAO M.
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
KANEMARU S.
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
MATSUKAWA T.
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
ITOH J.
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
YAMAMOTO S.
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 23 号： 2 ページ： 741-744 発行年： 2005年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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