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J-GLOBAL ID：200902231982625088 整理番号：03A0377703

ハロゲン化物イオンの消耗によるサブミクロントレンチでの銅の優先電着

Preferential Copper Electrodeposition at Submicrometer Trenches by Consumption of Halide Ion.

著者 (4件)：

HAYASE M

(Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN)

TAKETANI M

(Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN)

HATSUZAWA T

(Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN)

HAYABUSA K

(Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)

資料名：

Electrochemical and Solid-State Letters (Electrochemical and Solid-State Letters)

巻： 6 号： 6 ページ： C92-C95 発行年： 2003年06月
JST資料番号： W1290A ISSN： 1099-0062 CODEN： ESLEF6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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