文献
J-GLOBAL ID:200902232424374342
整理番号:05A1022806
シリコンオキシニトリドにおける拡散におよぼす窒素効果
Effect of Nitrogen on Diffusion in Silicon Oxynitride
著者 (3件):
UEMATSU Masashi
(NTT Corp., Kanagawa, JPN)
,
KAGESHIMA Hiroyuki
(NTT Corp., Kanagawa, JPN)
,
SHIRAISHI Kenji
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
44
号:
11
ページ:
7756-7759
発行年:
2005年11月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)