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文献
J-GLOBAL ID：200902232506996163
整理番号：04A0501014
Coをドープしたβ-FeSi2の格子位置占有に対する電子チャネリングX線微小解析
Electron channeling X-ray microanalysis for site occupation in β-FeSi2 doped with Co
MORIMURA T
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
,
HASAKA M
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
資料名：
Materials Characterization
(Materials Characterization)
巻： 52 号： 1 ページ： 35-41 発行年： 2004年03月
JST資料番号： D0448C ISSN： 1044-5803 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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