文献
J-GLOBAL ID:200902233451533823
整理番号:03A0506415
p-クロロメチル-メトキシ-カリクス[4]アレンレジストを用いたサブ10nmスケール・リソグラフィ
Sub-10-nm-Scale Lithography Using p-chloromethyl-methoxy-calix[4]arene Resist
著者 (6件):
ISHIDA M
(NEC Corp., Tsukuba, JPN)
,
FUJITA J
(NEC Corp., Tsukuba, JPN)
,
OGURA T
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
OCHIAI Y
(NEC Corp., Tsukuba, JPN)
,
OHSHIMA E
(Tokuyama Corp., Tsukuba, JPN)
,
MOMODA J
(Tokuyama Corp., Tsukuba, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
42
号:
6B
ページ:
3913-3916
発行年:
2003年06月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)