文献
J-GLOBAL ID:200902233679199540
整理番号:04A0047126
N2-H2プラズマ表面処理によるTiO2薄膜の光学反応性の改善
The improvement of optical reactivity for TiO2 thin films by N2-H2 plasma surface-treatment
著者 (6件):
MIAO L
(Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
,
TANEMURA S
(Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
,
WATANABE H
(Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
,
MORI Y
(NGK Insulators Ltd, Nagoya, JPN)
,
KANEKO K
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
TOH S
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
260
号:
1/2
ページ:
118-124
発行年:
2004年01月02日
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)