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文献
J-GLOBAL ID：200902234277201901
整理番号：03A0506403
微小ダイアモンドモールドを用いたナノインプリントリソグラフィによる高アスペクト比パターン作製
High Aspect Pattern Fabrication by Nano Imprint Lithography Using Fine Diamond Mold
HIRAI Y
(Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
YOSHIDA S
(Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TAKAGI N
(Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TANAKA Y
(Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
YABE H
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
SASAKI K
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
SUMITANI H
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
YAMAMOTO K
(Technol. Res. Inst. of Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42 号： 6B ページ： 3863-3866 発行年： 2003年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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