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文献
J-GLOBAL ID：200902234515602740
整理番号：06A0651109
最終フォトマスクの平坦性へのペリクルの影響
Influence of the pellicle on final photomask flatness
WISTROM Richard
(IBM Systems and Technol. Group, VT, USA)
,
HAYDEN Dennis
(IBM Systems and Technol. Group, VT, USA)
,
RACETTE Kenneth
(IBM Systems and Technol. Group, VT, USA)
,
BARRETT Monica
(IBM Systems and Technol. Group, VT, USA)
,
WATTS Andrew
(IBM Systems and Technol. Group, VT, USA)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 6283 号： Pt.2 ページ： 628326.1-628326.7 発行年： 2006年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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