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文献
J-GLOBAL ID:200902235320021536   整理番号:07A1058863

走査型プローブ顕微鏡を用いたSi用のサブ20nm擦過ナノリソグラフィー

Sub-20 nm Scratch Nanolithography for Si Using Scanning Probe Microscopy
著者 (3件):
OGINO Takumi
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
NISHIMURA Shinya
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
SHIRAKASHI Jun-ichi
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 46  号: 10A  ページ: 6908-6910  発行年: 2007年10月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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