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文献
J-GLOBAL ID：200902235320021536
整理番号：07A1058863
走査型プローブ顕微鏡を用いたSi用のサブ20nm擦過ナノリソグラフィー
Sub-20 nm Scratch Nanolithography for Si Using Scanning Probe Microscopy
OGINO Takumi
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
,
NISHIMURA Shinya
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
,
SHIRAKASHI Jun-ichi
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46 号： 10A ページ： 6908-6910 発行年： 2007年10月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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