文献
J-GLOBAL ID:200902235326007055
整理番号:06A0920833
プラズマ重合したナノ細孔ポリシロキサン膜の調製に対するポロゲン法
Porogen Approach for the Fabrication of Plasma-Polymerized Nanoporous Polysiloxane Films
著者 (6件):
OKA Toshitaka
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
ITO Kenji
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
MURAMATSU Makoto
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
OHDAIRA Toshiyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
SUZUKI Ryoichi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
KOBAYASHI Yoshinori
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名:
Journal of Physical Chemistry B
(Journal of Physical Chemistry B)
巻:
110
号:
41
ページ:
20172-20176
発行年:
2006年10月19日
JST資料番号:
W0921A
ISSN:
1520-6106
CODEN:
JPCBFK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)