文献
J-GLOBAL ID:200902235510549227
整理番号:04A0488488
前駆体としてクロム(III)アセチルアセテートを用いた硬質窒化クロム薄膜被覆のプラズマ支援金属-有機物化学蒸着
Plasma assisted metal-organic chemical vapor deposition of hard chromium nitride thin film coatings using chromium(III) acetylacetonate as the precursor
著者 (6件):
DASGUPTA A
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
,
KUPPUSAMI P
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
,
LAWRENCE F
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
,
RAGHUNATHAN V S
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
,
PREMKUMAR P A
(Loyola Coll., Chennai, IND)
,
NAGARAJA K S
(Loyola Coll., Chennai, IND)
資料名:
Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing
(Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing)
巻:
A374
号:
1/2
ページ:
362-368
発行年:
2004年06月15日
JST資料番号:
D0589B
ISSN:
0921-5093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)