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文献
J-GLOBAL ID:200902235510549227   整理番号:04A0488488

前駆体としてクロム(III)アセチルアセテートを用いた硬質窒化クロム薄膜被覆のプラズマ支援金属-有機物化学蒸着

Plasma assisted metal-organic chemical vapor deposition of hard chromium nitride thin film coatings using chromium(III) acetylacetonate as the precursor
著者 (6件):
DASGUPTA A
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
KUPPUSAMI P
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
LAWRENCE F
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
RAGHUNATHAN V S
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
PREMKUMAR P A
(Loyola Coll., Chennai, IND)
NAGARAJA K S
(Loyola Coll., Chennai, IND)

資料名:
Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing  (Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing)

巻: A374  号: 1/2  ページ: 362-368  発行年: 2004年06月15日 
JST資料番号: D0589B  ISSN: 0921-5093  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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