文献
J-GLOBAL ID:200902235591753613
整理番号:03A0549753
石英ガラス中の構造緩和の仮想温度依存性
Fictive-temperature dependence of structural relaxation in silica glass
著者 (3件):
KAKIUCHIDA H
(Toyota Technological Inst., Aichi, JPN)
,
SAITO K
(Toyota Technological Inst., Aichi, JPN)
,
IKUSHIMA A J
(Toyota Technological Inst., Aichi, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
94
号:
3
ページ:
1705-1708
発行年:
2003年08月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)