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文献
J-GLOBAL ID：200902235802600533
整理番号：04A0711779
分子線エピタクシーによるSi(111)基板上のSi/β-FeSi2/Si二重ヘテロ構造の成長と時間分解測定による光ルミネセンス
Growth of Si/β-FeSi2/Si double-heterostructures on Si(111) substrates by molecular-beam epitaxy and photoluminescence using time-resolved measurements
TAKAUJI M
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
SEKI N
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
SUEMASU T
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
HASEGAWA F
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
ICHIDA M
(Konan Univ., Hyogo, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 96 号： 5 ページ： 2561-2565 発行年： 2004年09月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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