文献
J-GLOBAL ID:200902235966883080
整理番号:07A0674731
Alpha Demo ToolによるEUVリソグラフィー 現状と課題
EUV lithography with the Alpha Demo Tools: status and challenges
著者 (14件):
HARNED Noreen
(ASML Wilton, CT, USA)
,
GOETHALS Mieke
(IMEC, Leuven, BEL)
,
GROENEVELD Rogier
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
KUERZ Peter
(Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technol. AG, Oberkochen, DEU)
,
LOWISCH Martin
(Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technol. AG, Oberkochen, DEU)
,
MEIJER Henk
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
MEILING Hans
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
RONSE Kurt
(IMEC, Leuven, BEL)
,
RYAN James
(Univ. Albany (CNSE), NY, USA)
,
TITTNICH Michael
(Univ. Albany (CNSE), NY, USA)
,
VOORMA Harm-Jan
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
ZIMMERMAN John
(ASML Wilton, CT, USA)
,
MICKAN Uwe
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
LOK Sjoerd
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6517
号:
Pt.1
ページ:
651706.1-651706.12
発行年:
2007年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)