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文献
J-GLOBAL ID：200902238100486626
整理番号：09A0646153
30nmハーフピッチとそれ以下のEUVリソグラフィー: 解像度,感度及びLWRトレードオフの探求
EUV Lithography for 30nm Half Pitch and Beyond: Exploring Resolution, Sensitivity and LWR Tradeoffs
PUTNA E. Steve
(Intel Corp., OR)
,
YOUNKIN Todd R.
(Intel Corp., OR)
,
CHANDHOK Manish
(Intel Corp., OR)
,
FRASURE Kent
(Intel Corp., OR)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 7273 号： Pt.1 ページ： 72731L.1-72731L.9 発行年： 2009年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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